金融界2025年8月19日消息，国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“材料沉积组件、真空沉积系统和制造器件的方法”的专利，公开号CN120513315A，申请日期为2023年01月材料。
专利摘要显示，描述了一种与在真空沉积腔室中将材料沉积在基板上的材料沉积组件材料。该材料沉积组件包括：第一材料沉积源，该第一材料沉积源被配置用于连续层的竖直沉积，该第一材料沉积源包括：第一分布管，该第一分布管被配置用于引导经蒸镀材料；以及第一喷嘴排，该第一喷嘴排具有与该第一分布管流体连通的两个或更多个第一喷嘴，该两个或更多个第一喷嘴沿该第一分布管分布，并且该第一喷嘴排朝向第一方向倾斜；以及第二喷嘴排，该第二喷嘴排具有与该第一分布管流体连通的两个或更多个第二喷嘴，该两个或更多个第二喷嘴沿该第一分布管分布，并且该第二喷嘴排朝向不同于该第一方向的第二方向倾斜。
来源：金融界